●可靠性强,保证设备安全运行,减少故障发生,保护齐全,隔离及防腐措施合理。

●高稳定性:系统反应速度快,对于网电及负载变化具有极强的适应性,输出精度可达1%。

●节电效果好:较可控硅整流器可节电15%-30%,对企业降低成本定会发挥重要作用。

●体积小、重量轻:体积与重量为可控硅整流器1/5-1/10,便于规划、扩建、移动和安装。

●技术含量高,核心部件采用国际专利技术产品,控制电路采用专有技术,稳压性能强,提高了工作效率。

1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。

2、 改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。

3、 改善覆盖能力和分散能力,高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。

4、 降低镀层的内应力,改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。

5、 有利于获得成份稳定的合金镀层。

6、 改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。

7、 改进镀层的机械物理性能,如提高密度降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性而且可以控制镀层硬度。

传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用,面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统整流器存在的缺陷。